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圆满收官 | 一韦仪器首次亮相CPHI China 2026,回顾展会精彩时刻

更新时间:2026-06-24      点击次数:59

圆满收官 | 一韦仪器首次亮相CPHI China 2026,回顾展会精彩时刻


CPHI首秀,三天回顾

Part.1


2026年6月16日至18日,第二十四届世界制药原料中国展(CPHI & PMEC China 2026)在上海新国际博览中心圆满落幕。本届展会汇聚了全球制药产业链上下游众多知名企业,专业观众超过11万人次。一韦仪器首次参展,携七款主力仪器亮相,在三天展期中与海内外制药行业客户进行了广泛而深入的交流。

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首次参展,七款主力仪器集中展出

Part.2

作为CPHI的新面孔,一韦仪器本次展出了覆盖药物研发、生产质控和合规检测的七款核心产品:

多功能高能球磨仪IM600、超离心粉碎机ZM500、总有机碳分析仪(TOC)、高精度双光束紫外-可见分光光度计G800、高压微射流均质机、筛分仪、荧光分光光度计,分别应用于超细粉碎与固相分散、快速研磨、清洁验证和水质检测、药品含量测定与蛋白质定量分析、复杂制剂处理、粉末粒度分级,以及荧光/发光/偏振检测等场景。

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引发关注,海内外客户驻足洽谈

Part.3

回顾三天的展会,一韦仪器展位始终保持着较高的人气。研磨类产品热度尤为突出,IM600、ZM500及筛分仪吸引了大量专业观众咨询,多家客户表达了展会后寄送样品进行实测的意向。

TOC分析仪和高压微射流均质机在制药企业中关注度同样很高,清洁验证中的检测精度、纳米制剂的均质工艺是讨论最集中的话题。高精度双光束紫外-可见分光光度计G800和荧光分光光度计也吸引了众多目光,在药品含量测定、蛋白质定量分析及荧光检测等场景中的应用成为交流热点。

多位海外客户专程到访,详细了解技术指标、配件选型和售后体系。现场技术团队提供了专业咨询与操作演示。多家企业现场交换了合作意向,并预约了样品寄送测试和实验室参观。对于首次参展,这样的关注度超出了团队预期。

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25年行业积累,为制药质控提供可靠工具

Part.4

上海一韦仪器科技由三位分析化学专业背景的创始人联合创立,团队在样品前处理、光谱分析和总有机碳检测领域拥有超过二十五年的技术积累。公司总部位于上海浦东,设有应用实验室,针对部分产品线可提供免费样品前置测试及工艺方案开发服务。在北京、成都设有办事处,并在全国主要省份建立合作代理商网络,确保技术支持与售后保障的快速响应。


在制药行业,一韦仪器的研磨仪、光谱仪和TOC分析仪已广泛应用于原料药、制剂、中药及生物制品的质量控制环节。本次CPHI首秀,让更多制药行业用户认识了一韦仪器,也为公司后续深入拓展制药领域奠定了良好基础。未来,一韦仪器将继续专注科学仪器的精密制造与应用开发,为制药行业提供更加实用、可靠的实验室解决方案。

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